平成22年度 研究室メンバー
教授
講師
M2（2名）
- 野村昌弘 (エピタキシャルFe(110)/Cr(110)多層膜における界面の乱れとフラストレーション)
- 峰野祐輔 （産総研）（極薄GaOx層挿入によるFe / n ? GaAs接合の ショットキー障壁高さの抑制 ）
M1（2名）
- 花島健太郎 （スピネル化合物CoAl2O4のインバージョン制御と幾何学的フラストレーション）
- 三橋 賢 （RFスパッタリング法による秩序型ペロブスカイトMn酸化物の薄膜作製）
４年生(15名）
- 堂口（ランダム異方性を持つアモルファス磁性体a-NdZrFeにおける交流磁場振幅依存性）
- 徳田（ランダム異方性を持つアモルファス磁性体a-ZrNdFeの磁気相転移）
- 齋藤（強磁性体a-ZrFeに対するランダム磁気異方性の影響）
- 中村（Fe/Crサンドイッチ薄膜における界面の乱れとフラストレーション）
- 木場（エピタキシャルFe(110)/Cr(110)多層膜の作製と界面フラストレーションの研究）
- 児玉（スピネル化合物Co(Al1-xRhx)2O4の磁気的性質）
- 島村（単分子磁石単結晶の磁気異方性）
- 奥谷（RFスパッタ装置を用いたぺロブスカイト型マンガン酸化物薄膜作製）
- 小林（A-site秩序型Nd1/2Ba1/2MnO3薄膜の作製）
- 坂井（新しい磁性強誘電体の探索）
- 仲田（Aサイト欠損ぺロブスカイト型コバルト酸化物の合成）
- 宇田（Aサイト秩序型ぺロブスカイト酸化物の新物質探索）
- 渡辺（外研：産総研、Fe/Geショットキー接合の伝導特性に及ぼす極薄絶縁障壁層の挿入効果）
- 倉光（外研：NHK技研、スピントルクによる磁壁移動のシュミレーション）
- 田中（幾何学的フラストレーション）
（ ）内は研究テーマ
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